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緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng) 重新定義無掩模光刻技術(shù) LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實(shí)現(xiàn)無掩模圖案化。設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔，精準(zhǔn)它將微加工技術(shù)從潔凈室和任何研究或教育空間中帶出來。

全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī) VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動(dòng)設(shè)置或調(diào)整，我們的自動(dòng)化系統(tǒng)可以在2 cm×2 cm的曝光區(qū)域內(nèi) （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實(shí)現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結(jié)構(gòu)的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，

VIL1000激光干涉光刻機(jī) VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生各種納米結(jié)構(gòu)，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。